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溅射靶材

  • 铌靶
铌靶

铌靶

  • 牌号:Nb1、Nb2
  • 纯度:≥99.95%
  • 规格:根据客户图纸及要求定制
  • 产品描述:为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

靶材应用:

溅射靶材最主要的利用于微电商及的数据信息加工业,如整合电路设计、的数据信息文件存储空间、液晶电视机展示屏、激光束文件存储空间器、微电商设定电子元器件等;而能利用于玻璃钢渡膜邻域;还是可以利用于耐用涂料、炎热耐蚀、高端装饰装修工具等制造行业。

众昌金属可为用户专业生产加工各种规格溅射靶材,纯度高、均匀致密,具有优良导热性,从而保证靶材的高效率和高利用率。

靶材分类:

据的形状可分:方靶、圆靶、普通常规靶

靶材的主要性能要求

纯度

溶解度是靶材的关键能依据之三,正是因为靶材的溶解度对薄膜和珍珠棉的能危害巨大。可是在事实软件中,对靶材的溶解度请求也不绝同等。比如说,随着时间推移微光学企业的快速發展發展,硅片图片尺寸由6”、8“發展到12”,而走线高宽比由0.5um增大到0.25um,0.18um和0.13um,此前99.995%的靶材溶解度都可以满足需要0.35umIC的工艺技术请求,而制得0.18um色块对靶材溶解度则请求99.999%和99.9999%。

杂质含量

靶材固态物中的其它杂物和排气口中的供氧和气水是积聚薄膜和珍珠棉的基本废弃物源。各种各种领域的靶材对各种各种其它杂物纯度的的要也各种各种。比如,半导体行业工业化的用的纯铝及铝锰钢靶材,对碱材料纯度的和放射学性要素纯度的都会独特要。


我装修公司钨钼工艺品具有着溶点高、承载力大、耐用度长、耐高的温度的性能好等特征 ,多方面应用于热场、抽真空电镀、大光伏、蓝黄宝石结晶、光电公司子、半导体芯片、独特的化工陶瓷、光线照明工程、机诫配件、有机窗玻璃生产、有机窗玻璃钎维,耐火钎维,稀土元素有色金属冶炼、化工锅炉等一方面的领域。

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CTX射线管和旋转阳极X射线管:钼基钨靶;

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公司以“优质的产品质量、优秀的经营服务”为宗旨,热诚欢迎新老客户洽谈合作,共同发展。

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